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如何控制真空爐的爐溫？

真空爐的溫度控制系統主要由可控硅觸發(fā)勵磁設備、單片機模糊控制器、熱電偶傳感器、磁性調壓器和記錄儀組成，與被控目標(真空加熱室內鉬絲加熱器)一起構成直接數字控制。(ddc)該系統，整個(gè)控制構成了閉環(huán)微調系統。

爐體恒溫區配有溫度測量電偶，前蓋配有調查孔，后蓋配有微調屏。加熱室上側面有通風(fēng)孔，冷卻工件時(shí)有分流效果。加熱室由鉬制數據、不銹鋼、陶瓷和硅酸鋁纖維氈組成。加熱器由多個(gè)鉬絲捆綁而成，沿爐體軸線(xiàn)方向和直方向均勻分布。根據設置技術(shù)曲線(xiàn)和檢測信號的對比，真空爐單片機通過(guò)模糊控制算法進(jìn)行模糊推理，然后宣布控制信號，通過(guò)可控硅觸發(fā)設備控制可控硅的導通角，然后控制輸出電壓，然后通過(guò)可調電流進(jìn)行調節。